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次磷酸鈉在化學(xué)鍍中的應(yīng)用

來源:admin時間:2023/4/27 15:53:04次數(shù):/次

 次磷酸鈉是一種較理想的還原劑, 主要用于化學(xué)鍍、電鍍、有機(jī)合成工業(yè)、食品加工和保鮮、工程塑料穩(wěn)定劑。隨著研究的深入和其衍生物的大量增加, 其應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大, 已經(jīng)成為一種重要的無機(jī)鹽產(chǎn)品。

 

次磷酸鈉的性質(zhì)
次磷酸鈉為無色片狀晶體。從水溶液制得的次磷酸鈉的結(jié)晶為一水合物 (NaH2PO2·H2O) , 單斜棱晶, 無色, 易潮解, 易溶于水、酒精, 不溶于乙醚。干燥狀態(tài)下貯存較為穩(wěn)定, 加熱超過200℃, 則分解。H2PO2-為變形四面體構(gòu)型。

 

 

 

 

純H3PO2是白色晶體, 熔點(diǎn)為299.7K, 易過冷成黏稠液體。它是一元酸, pKa=1.1 (293~298K) 。H3PO2是強(qiáng)還原劑, 其水溶液不易被空氣中的氧氧化。相對而言, 稀溶液 (質(zhì)量分?jǐn)?shù)小于20%) 較易被氧化成H3PO3。于413K, H2PO2分解為H3PO4, PH3及H2;在堿液中分解為HPO32-和H2, 分解速率因OH-濃度的增大而加快

次磷酸根在酸性 (pH=0) 及堿性 (pH=14) 介質(zhì)中的電勢圖
次磷酸鈉在化學(xué)鍍中的應(yīng)用
次磷酸鈉主要用于化學(xué)鍍鎳的還原劑;瘜W(xué)鍍鎳層在平整性、耐蝕性、機(jī)械性能、導(dǎo)電性能、磁性能等方面有著諸多優(yōu)點(diǎn), 已經(jīng)在各行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。
化學(xué)鍍還可以處理電鍍無法處理的鍍件, 如孔洞、溝槽、不規(guī)則的表面、較大的鍍件等。化學(xué)鍍使用的還原劑還可以是甲醛、硼氫化鈉、肼、二甲基胺基硼烷、低價金屬離子等。
采用次磷酸鈉作還原劑具有氧化還原電位低、鍍液穩(wěn)定、成本低等優(yōu)點(diǎn), 故其使用最為廣泛。使用甲醛的鍍液不穩(wěn)定, 同時甲醛有毒, 污染環(huán)境。
硼氫化鈉在非強(qiáng)堿性溶液中極易分解, 所以鍍液的pH值應(yīng)保持在11以上。用肼作還原劑, 雖然不存在有害氧化物積累的問題, 并可獲得純度較高的鍍鎳層, 但鍍層內(nèi)應(yīng)力大、脆性大。二甲基胺基硼烷可在較寬的pH值范圍內(nèi)操作, 但是其價格較高。
采用低價離子 (如Ti 3+, Sn2+等) 作還原劑, 存在氧化還原反應(yīng)不在催化劑表面進(jìn)行的缺點(diǎn)。
次磷酸鈉在化學(xué)鍍鎳中的應(yīng)用

次磷酸鈉的最大用途就是作為化學(xué)鍍鎳的還原劑。采用次磷酸鹽作為化學(xué)鍍鎳的還原劑時, 改變其鍍液組成及操作條件, 可以獲得磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%~12%的鎳-磷合金鍍層。根據(jù)磷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的變化, 可用于不同的領(lǐng)域。一般在化學(xué)鍍鎳液中次磷酸鈉的質(zhì)量濃度為25~30g/L, 并且Ni 2+與H2PO2-的摩爾比應(yīng)保持在0.25~0.60之間, 最好在0.30~0.45之間。比值太低, 鍍層外觀性能差;比值太高, 鍍速變得很慢, 效率降低。鎳沉積的反應(yīng)速率一般與次磷酸鹽的質(zhì)量濃度成正比, 因而次磷酸鹽的質(zhì)量濃度直接影響沉積速率。

次磷酸鈉在化學(xué)鍍銅中的應(yīng)用

由于次磷酸鈉在銅表面不具備催化活性, 在使用次磷酸鈉作化學(xué)鍍銅的還原劑時往往加入一些鎳離子作催化劑, 其質(zhì)量濃度為2g/L。鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為6%左右, 使得鍍銅層的導(dǎo)電性及延展性都下降30%左右。當(dāng)在采用次磷酸鈉作還原劑化學(xué)鍍銅時, 可用硫酸鐵作催化劑,,不用硫酸鎳。使其溶液組成為:五水合硫酸銅2g/L, 七水合硫酸鐵0.3g/L, 酒石酸鉀鈉4g/L, 次磷酸鈉5g/L, 硫酸銨0.8g/L, 硫脲0.01g/L, pH值10~13。

次磷酸鈉在化學(xué)鍍錫中的應(yīng)用

化學(xué)鍍錫所用的還原劑一般是次磷酸鈉。其產(chǎn)生的廢水比較容易處理, 效果比其他還原劑的更好。鍍層厚度先隨次磷酸鈉的質(zhì)量濃度的升高而增加, 達(dá)到最大值后又略有下降。

次磷酸鈉作為一種價格低廉、性質(zhì)穩(wěn)定、無毒副作用的還原劑, 必將得到越來越廣泛的應(yīng)用。

 

 

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